采用磁控溅射法,以VO_2为溅射靶材在硅和石英基底上制备出纯VO_2晶相(B相和M相)薄膜。借助衬底上籽晶层的辅助,将VO_2薄膜沉积过程......

利用磁控反应溅射镀膜方法在低温(250℃)条件下制备了主要成分为B相亚稳态二氧化钒(VO2)的薄膜材料。电学性能测试表明:室温下该薄......

采用反应磁控溅射法制备二氧化钒(VO2)薄膜,并对其进行快速热处理(RTP)。主要研究500℃快速热处理10、15、20s工艺条件下VO2薄膜结......

报道了ＶＯ２薄膜在ＴＥＡＣＯ２激光照射下的相变特性的实验研究。结果表明：对于本文镀制的ＶＯ２薄膜，在偏置温度为５２°Ｃ条件下，ＴＥＡＣＯ２激光入射能量密度为１５０ｍＪ／ｃｍ２时，可使ＶＯ２薄膜发......

利用VO2热变色薄膜和TiO2防反射涂层制备了一种新型的多功能智能窗口.通过计算设计了可见光透过率大大增强的VO2薄膜,其中分别使用......

介绍了一种新颖的、简单易行的二氧化钒粉末制备方法,以VOSO4为原料,水解后获得VO(OH)2沉淀,将沉淀清洗、干燥后,对其进行真空热处......